极紫外光刻（Extreme Ultra-violet），常称作EUV光刻，它以波长为10-14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术。具体为采用波长为13.4nm 的紫外线。极紫外线就是指需要通过通电激发紫外线管的K极然后放射出紫外线。
近日，来自冲绳科学技术大学院大学（OIST）的Tsumoru Shintake教授提出了一项性的极紫外（EUV）光刻技术，该技术不仅超越了现有半导体制造的界限，更预示着行业未来的新篇章。
日前，荷兰光刻机巨头ASML与半导体大厂imec宣布，双方将在荷兰费尔德霍芬（Veldhoven）共同设立了一家高数值孔径（NA）极紫外线（EUV）光刻实验室。
芯片大厂英特尔宣布，已经完成了世界上第一台商用高数值孔径（NA ）极紫外光刻（ EUV）扫描仪的组装工作。
近期，中国科学院上海光学精密机械研究所高功率激光物理联合实验室张军勇副研究员团队联合哈尔滨工业大学赵永蓬教授课题组首次完成EUV和软x射线分束器的设计与实验验证，该研究有望解决极紫外和x射线波段的衍射成像和干涉传感的分束器受限问题。
近期，中国科学院上海光学精密机械研究所高功率激光物理联合实验室张军勇团队联合哈尔滨工业大学赵永蓬教授课题组首次完成EUV和软x射线聚焦光场的阵列调控与整形，解决了极紫外和x射线波段的衍射成像和干涉传感的元器件受限问题。
日前消息指光刻机巨头ASML预计明年量产10台第二代EUV光刻机，其中6台已确定被美国芯片企业Intel夺下，剩下的两台将由三星和台积电竞争，如此一来拿到更多第二代EUV光刻机的美国可望率先量产2纳米，反超台积电
美国拉拢了日本、荷兰，从芯片设备方面进一步加码限制中国芯片，不过日前知名院士倪光南认为中国在存储芯片方面拥有自己的核心知识产权，不会受EUV光刻机的限制所影响。 据了解目前全球主流的NAND f
众所周知，目前全球仅有一家厂商，能够生产EUV光刻机，它就是荷兰的ASML。而之所以全球仅此一家，这是因为ASML将很多关键的厂商在了一起，比如德国光学公司蔡司（Zeiss），再比如美国的Cymer，再比如德国的通快集团（TRUMPF）等
德国研究人员开发出了一种紧凑的极紫外（EUV）激光模块——可以用来产生特殊的EUV光，它不仅打破了以往EUV光实验只能在昂贵的大型研究设施中进行的限制，还带来了更高的成本效益。
美国研究小组通过发射飞秒激光并使之穿过充满气体的波导，成功地生成了非常紧凑、功率强大的极紫外辐射（EUV）光束。其峰值功率接近兆瓦，产生纳米级的光波，但整个设备可以放在一个中等大小的桌子上。
6 月 30 日消息，据 BusinessKorea 报道，三星电子副董事长李在镕于 6 月中旬结束了对欧洲的商务访问，此行他与 ASML 公司就引进该荷兰半导体设备制造商的下一代极紫外（EUV）光刻设备进行了会谈。
德国通快集团在不久前完成了第200台EUV光刻机光源的发货。通快预计，在2022财年EUV业务销售额将大幅增加到6亿欧元。
日立科学仪器宣布开发其电子束区域（Electron Beam Area）检测系统。该公司正逐步将EUV应用于5nm节点器件的量产和3nm节点器件的开发。
第三季度净预订量为62亿欧元，其中包括22亿欧元（相当于人民币164亿元）的 EUV 销售额。
2020年，ASML设备销售额为103亿欧元，其中EUV光刻系统销售再创新高，全年销售31台，销售额达45亿欧元，同比增长60％，占设备销售额的43％。通快是ASML EUV光刻机光源的独门供应商，有关EUV应用的销售额同比增长了近20％，达4.6亿欧元。
日前，德国通快集团发布了2019／20财年（截至2020年6月30日）业务报告。报告显示，通快集团的营收下降8％，至35亿欧元（2018／19财年：38亿欧元）。订单总额下降11％至33亿欧元（2018／ 2019财政年度：37亿欧元）
通快举办了一场精彩的新品发布会，包括碟片激光器、纳秒激光器、飞秒激光器以及新一代激光三维机床等在内的15项新产品完成“中国首发”。发布会结束后，OFweek激光网对通快中国激光事业部总经理黄哲进行了采访。
近日，荷兰光刻机巨头ASML宣布计划收购光学公司Berliner Glas，以巩固关键部件的供应。ASML于当地时间7月15日刚公布第二季度业绩，相比第一季，ASML第二季度业绩显著提升，销售额相较第一季度强增长35％，达到33亿元，毛利率达到48．2％
德国通快集团发布了2018/19财年（截至2019年6月30日）业务报告。报告显示，尽管集团销售额再度保持增长达到37.8亿欧元（17/18财年为35.7亿欧元，增长6.1％），但订单总额减少了3.1％，为36.8亿欧元（17/18财年为38亿欧元）。
近日，TRUMPF公司CTO及股东Peter Leibinger在谈到令人着迷的激光创新时重点提及极紫外光刻，也就是我们常说的EUV。
日本半导体曝光设备用光源领域的大型厂商Gigaphoton称其EUV光源扫描仪实现了连续运行和稳定发射：激光驱动等离子光源原型实现了输出达108W，平均能量稳定性为0.5%的结果。