我们都知道，中国是快速发展的世界性大国，经过74年的不懈努力，综合实力已经跃居全球第二位，并且仍在继续前进。
在当前社会，大国之间的较量是综合实力的比拼，我国虽然实力出众，跻身强国之列，但显然一些技术还没有到最的水平，还需要继续努力。
近年来的芯片禁运及相关制裁，就让我们看到了自身存在的差距，华为等高科技企业自力更生，艰苦奋斗，也是未来国家崛起的重要推动力量。
众所周知，国际当前流行的芯片生产技术主要依靠荷兰ASML等公司的光刻机解决技术，而国外通常是一个光源一个光刻机，由于技术封锁和高端设备禁售，我国只能自行研发和摸索，并且无法绕开光源小型化的专利，于是充满智慧和决心的中国研发人员，想到了另一种思路。
目前我国已经开始研究新的国产芯片研发和生产方案，已经获得国家专利提名，并且相关生产基地已落成。
据悉，中国也将采用最新的EUV技术，但和国际主流有很大区别，致力于通过一个大型光源，一个光源但多台光刻机的模式，与ASML的EUV相比就是光源较大，不易移动，但功能是一样的，也就是相当于光源固定，移动设备的方式来进行。
怪不得ASML的老板急了，此前说中国人能想出他们想不到的解决方案，没想到对华技术禁令却让中国变的更加强大，现如今他们想遏制却无能为力了。
不得不说，想出这种方法的科研人员真的是鬼才，不仅才华横溢，而且勇于创新，是真正的国家的英雄。
根据一位资深光刻机研究人员的发言说，他们专业人士一直都被欧洲人的思路套牢了，总想着怎么完成EUV的最后一步，EUV光源的小型化。
经过不断的研究摸索，技术人员终于了解到，光源小型化不适合我们，或者是当前的国际大环境下难以实施。那么我们的光源就造这么大，放弃小型化的思路西方人的EUV是光源在机器之间移动，我们的光源不移动，而机器移动，其实作用是类似的。
现如今，中国国产EUV可能也有了，据了解国内某城市生产基地或已经落成，正在进行最后的调试工作，年内将开始试生产的环节，如果顺利的线NM芯片。
如果这项重要的科研成果能够最终实施并取得实效，无疑是我国微电子领域里程碑的时刻，不仅可以彻底打破西方列强封锁 ，还可以提振相关产业实现快速发展，使我国相关产业在未来竞争中立于不败之地，进一步提升我国的综合实力，引领世界潮流。